集成电路产业是我国战略性新兴产业的重要部分，是信息产业的基础与核心。其核心材料光刻胶产品的质量和性能是影响集成电路性能、成品率及可靠性的关键因素。目前国内光刻胶技术水平与全球先进水平有着较大的差距，光刻胶产品有着很高的技术壁垒，193nm高端光刻胶及配套材料产品在国内一直是空白。上海新阳半导体材料股份有限公司为拓展公司自身业务范围及产品应用领域，拟与合作方共同投资设立子公司“上海新纳微电子材料有限公司”开展193nm（ArF）干法光刻胶研发及产业化项目。本项目计划总投资2亿元人民币，资金来源为项目发起单位自筹。项目公司注册资本为 1亿元人民币，上海新阳出资8000万元人民币，占目标公司股权的80%；邓海博士技术团队出资2000万元人民币，占目标公司股权的20%。