描述
本项目实施主体为发行人全资子公司宁波安集,项目建设期预计为2年。本项目计划投资10,500.00万元,建造新厂房,购置并安装光刻胶去除剂、甘氨酸生产设备及相应配套设施。清洗技术是半导体的基础技术之一,在半导体制造工艺中湿法清洗成本约占所有操作步骤的30%。光刻胶去除是图形化工艺中的关键技术,而光刻胶去除剂是决定光刻胶去除甚至图形化工艺最终良率及可靠性的关键材料。国内光刻胶去除剂主要依赖进口。随着本土芯片厂商对材料和技术服务等方面的要求提高,国外供应商逐渐显得滞后和低效,而国内供应商在此方面还较薄弱,因此建立和培育本土的高端光刻胶去除剂研发以及生产基地,是目前国内芯片厂商的普遍需求。甘氨酸产品是公司产品生产过程中的重要原材料,能自主掌控该原材料对于公司未来的产品战略具有十分重要的意义。本项目计划投资10,500.00万元。本项目建设地址位于宁波北仑芯港小镇,该土地由发行人通过招拍挂方式取得,并取得了编号为浙(2018)北仑区不动产权第0017577号不动产权证书,土地用途为工业用地。
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时间 | 项目名称 | 投资金额(万元) | 所属行业 | 详情 |
2019-07-03 | CMP抛光液生产线扩建项目 | 12000 | 信息技术及服务 | 详情 |
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