本项目拟投资 66,000.00 万元，进行 ArF 光刻胶产品开发和产业化工作。项目目标到 2021 年底，将在我国：1）首次建立 ArF 光刻胶产品大规模生产线，形成年产 25 吨 ArF（干式和浸没式）光刻胶产品的生产能力，产品性能满足90nm-14nm 集成电路制造的要求。产品通过 IC 芯片制造企业的使用认证，实现批量销售；2）建立国内第一个专业用于 ArF 光刻胶产品开发的检测评估平台。平台配备 ArF 光刻机、涂胶显影一体机、特征尺寸扫描电镜、缺陷检测和分析等检测设备，满足先进光刻胶产品和技术开发的需求；3）建立一支具有国际水平的先进光刻胶产品开发和产业化队伍。本项目的实施单位为子公司宁波南大光电材料有限公司，建设内容包括“先进光刻胶及高纯配套材料的开发和产业化”和“ArF 光刻胶产品的开发和产业化”。